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鍍膜

鍍膜

鍍膜

2021/5/20 15:40:01

· LPCVD(低壓化學(xué)氣相沉積)

SiNx,片內(nèi)均勻性:<±5%

· PECVD(等離子增強(qiáng) 化學(xué)氣相沉積)

SiO?,SiNx,a-Si(B,P,Ge摻雜)

· ICPCVD(感應(yīng)耦合 化學(xué)氣相沉積)

SiO?,SiNx,SiC(低溫、低應(yīng)力鍍膜)

· PEALD(原子層沉積)

Al2O3、HfO2、AlN

· 光學(xué)鍍膜

SiO2、MgF2、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3

· PVD(濺射沉積)

Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Pt、Zn、Mo、W、Ta、Ru、Si、SiC、NiCr20、Nb

· 電子束蒸發(fā)

Ti,Al,Ni,Ag,Cu,Cr,Sn,Pt,AuGe

· 熱蒸發(fā)

Sn,AuSn,Ag,Au,In,Al,Cr,Cu,Ti